开发工具:
文件大小: 1mb
下载次数: 0
上传时间: 2021-02-12
详细说明：在ArF准分子激光系统的应用中，光学薄膜元件激光诱导损伤的因素很多，因此在特定模式下分析薄膜损伤机理具有重要意义。采用热蒸发方法分别制备了LaF3和MgF2单层薄膜，以及LaF3/MgF2的半反射薄膜和高反射薄膜，对沉积的薄膜进行了ArF准分子193 nm激光的损伤阈值测量，并采用Nomarski显微镜观察了薄膜的表面缺陷和损伤形貌。实验结果表明，在薄膜的制备过程中，单层LaF3薄膜沉积后表面比较光滑，而MgF2薄膜则有少量的缺陷产生，缺陷随着薄膜层数的增加而逐渐增多。从薄膜的显微观测推断，在此工艺条件下制备的高反射薄膜损伤主要是由于大量缺陷引起。
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)
下载文件列表
相关说明
- 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
- 本站是交换下载平台，提供交流渠道，下载内容来自于网络，除下载问题外，其它问题请自行百度。
- 本站已设置防盗链，请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源，下载后用WinRAR最新版进行解压.
- 如果您发现内容无法下载，请稍后再次尝试；或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
- 下载后发现下载的内容跟说明不相乎，请到消费记录里找到下载记录反馈给我们，经确认后退回积分.
- 如下载前有疑问，可以通过点击"提供者"的名字，查看对方的联系方式，联系对方咨询.
