文件名称:
“黑硅”表面特殊锥状尖峰结构的制备及其光学模型仿真
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上传时间: 2021-02-12
详细说明：为了更好地理解“黑硅”材料高吸收效率的物理原因，在成功制备了表面具有不同高度的锥状尖峰结构的“黑硅”材料基础上，利用扫描电子显微镜(SEM)获得锥状尖峰的几何参数，并根据该参数进行“黑硅”表面特殊结构建模，计算出“黑硅”材料有效吸收表面积相对于普通平面硅材料的有效吸收表面积增加了20多倍；同时根据表面建模和几何光学的方法在200～2000 nm的光谱范围内进行了反射率仿真，仿真结果与实验测试数据较为接近，从而在理论上验证了该特殊结构的强吸收性是由飞秒激光加工的硅材料有效吸收表面积增加和“黑硅”结构的陷光效应而引起的。
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