文件名称:
利用表面化学反应生长高功率激光用光学薄膜
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上传时间: 2021-02-11
详细说明：用TiCI4和 H2O经表面化学反应生长出TIO2而制备出光学薄膜。在240 mm直径上的厚度分布不均匀性小于1%。25℃下生长的TiO2薄膜结构为非晶态;当温度增加至400℃时结构变为多晶态。二次离子质谱表明在各种生长温度下薄膜中均存留有氯化物。但这种残留氯化物可通过400℃的加热退火去除。25℃下生长的TiO2薄膜的激光破坏阈值在波长 1064 nm,脉宽 1ns时为 5J/cm2 。较高温度下生长的TiO2薄膜的破坏阈值将下降。膜中的氯化物对激光破坏阈值并无影响。
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