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上传时间: 2021-02-11
详细说明：在单晶硅片上，以旋涂(Spin-Coating)法制备了推-拉型偶氮染料掺杂高分子(PMMA)薄膜，其中二甲基胺基［N(CH3)2］作为推电子基团，羧基(COOH)作为拉电子基团。利用椭圆偏振光谱和吸收光谱，研究了薄膜的复折射率、复介电函数和吸收系数，分析了影响薄膜电子光谱的因素。结果表明，该薄膜在400～600 nm波长范围内，存在强而宽的吸收，并发现染料分子的聚集状态对其吸收光谱有较大的影响。
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