文件名称:
氧化钪/氧化硅反射薄膜的355 nm激光损伤特性
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上传时间: 2021-02-10
详细说明：采用电子束蒸发法制备了Sc2O3单层薄膜和Sc2O3/SiO2多层反射膜。利用原子力显微镜、 X射线衍射仪等方法对薄膜的表面和结构进行了研究。采用355 nm激光研究了Sc2O3/SiO2多层薄膜的损伤特性和预处理效应, 并对Sc2O3的损伤原因进行了分析。实验发现, Sc2O3具有较宽的带隙, 薄膜结构为立方相, 影响Sc2O3/SiO2多层反射膜抗损伤能力的主要因素是材料的纯度。
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