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上传时间: 2021-02-10
详细说明：极紫外投影光刻用14 nm波长的电磁辐射，可以在实现高分辨率的同时保持相对较大的焦深，有希望成为制造超大规模集成电路的下一代光刻技术。极紫外投影光刻工作于步进扫描方式，采用全反射、无遮拦、缩小的环形视场投影系统。无遮拦投影系统的初始结构设计困难且重要。介绍了一种近轴搜索方法，该方法引入了像方远心、物方准远心、固定放大率、Petzval 条件和物像共轭关系等约束，通过计算确定第一面反射镜、最后一面反射镜、光阑所在反射镜的曲率，以及物距和像距。编写了近轴搜索程序，搜索出初始结构。从初始结构出发，优化得到两套物镜，一套由四反射镜组成的系统，数值孔径0.1，像方视场26 mm×1 mm，畸变10 nm
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