文件名称:
超高数值孔径Schwarzschild投影光刻物镜的光学设计
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上传时间: 2021-02-06
详细说明：针对45 nm及以下节点光刻相关技术的研究需求，确定了实验型投影光刻物镜的结构型式及设计指标。依据像差理论在非同心小遮拦的Schwarzschild反射系统中添加折射补偿镜组来进一步减小系统的中心遮拦，扩大像方数值孔径。设计了一套小中心遮拦，数值孔径为1.20的Schwarzschild折反式投影光刻物镜。设计结果表明，该投影光刻物镜工作带宽为100 pm，像方视场为50 μm，线中心遮拦比为13%，光学分辨力为80 nm时（6240 lp/mm）的系统调制传递函数大于0.45，全视场最大畸变为6.5 nm，满足了45 nm深紫外（DUV）浸没光刻实验平台对投影光刻物镜的需求。
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