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文件名称: 退火时间对AZO薄膜结构及光学性质的影响
  所属分类: 其它
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  文件大小: 2mb
  下载次数: 0
  上传时间: 2021-02-04
  提 供 者: weixin_********
 详细说明:采用直流磁控溅射方法,以K9玻璃为衬底制备掺铝氧化锌(ZnO:Al,AZO)薄膜。在300℃真空条件下对样品进行退火处理,研究不同退火时间对薄膜内部微观结构、表面形貌及光学特性的影响。结果表明,最佳退火时间为2 h,此条件下的AZO薄膜具有较强的(002)衍射峰,晶粒尺寸为17.2 nm,表面结构平整致密,紫外-可见波段的平均透射率为93.47%,光学带隙为3.41 eV。
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