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上传时间: 2021-02-04
详细说明：10 nm以下光刻技术牵引极紫外(EUV)光刻物镜向超高数值孔径(NA)、组合倍率设计形式发展, 物镜系统的入射角和入射角范围因此急剧增大, 传统规整膜和横向梯度膜难以满足该类物镜系统反射率及像质要求。为此, 提出了横纵梯度膜组合法, 用横向梯度膜提高反射率, 用纵向梯度膜提高反射率均匀性, 并补偿横向梯度膜引入的像差。应用该方法对一套NA为0.50的组合倍率EUV光刻物镜进行膜层设计, 设计结果表明, 在保证系统成像性能不变的情况下, 平均每面反射镜的反射率大于60%, 各反射镜的反射峰谷值均小于3.5%, 满足光刻要求, 验证了横纵梯度膜组合法的可行性。
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