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一文解析平行光曝光机原理及图形转移技术
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文件大小: 140kb
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上传时间: 2021-01-19
详细说明：随着电子产品高精度成像的需求，对印制电路板的设计与制造的要求也越来越高。这推动了PCB生产所需的曝光设备的研制。为此研发出平行光曝光设备是制作密集细线路的关键。文章介绍了平行曝光机工作原理及图形转移技术，跟随小编来详细的了解一下吧。 平行光曝光机的特点 这个类型的设备只有一个灯管，曝光台面也是分有上下方两个镜子，使用的是光线折射的原理。当两个面同时进行曝光的时候，上下灯的曝光是分开的。上等先进行曝光，一面镜子将光线反射到台面的上方镜子，然后再折射到曝光台面上。下灯曝光时，光线是直接直射到下方的镜子里然后在折射到台面上，因此说使用品行曝光机进行曝光的时候，上灯的能量会比下灯的能量要更大一些，
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