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文件名称: 热退火对非晶碳氧硅薄膜蓝光的影响
  所属分类: 其它
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  文件大小: 1mb
  下载次数: 0
  上传时间: 2021-03-29
  提 供 者: weixin_********
 详细说明:在250°C的温度下使用超高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)制备了呈现蓝色发光的非晶碳氧化硅(a-SiCxOy)膜。 研究了热退火对光致发光(PL)的影响。 在600°C的温度下进行的热退火导致蓝色PL显着增强,而在明亮的房间中用肉眼可以清楚地观察到蓝色PL。 蓝色PL具有在纳秒级时域上独立于激发波长的重组动态。 如通过透射电子显微镜所揭示的,在退火膜中既不存在Si也不存在SiC量子点。 PL结果结合对薄膜中化学键的分析表明,蓝色PL的起源很大程度上是由于通过Si相关的中性氧空位缺陷中心进行的电子-空穴对复合。
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