您好,欢迎光临本网站![请登录][注册会员]  

开发技术下载列表 第23页

« 1 2 ... 18 19 20 21 22 2324 25 26 27 28 ... 434774 »

[其它] 用于超薄膜监测的表面等离子体增强差分反射技术

说明:用于超薄膜监测的表面等离子体增强差分反射技术
<weixin_38725426> 在 上传 | 大小:545792

[其它] Gigabyte技嘉G1.Sniper B5主板BIOS驱动程序下载

说明:支持Intel 第4代Core处理器 技嘉超耐久 4 Plus 技术 技嘉 Hybrid Digital 供电设计 技嘉 UEFI DualBIOS 技嘉 AMP-UP Audio 技术 独家可更换 OP-AMP 芯片 Nichicon高阶音效专用电容 LED 酷炫光阻隔讯号干扰设计 极致多显卡配置 提供USB 及LAN超强抗静电效果 支
<weixin_38590355> 在 上传 | 大小:7340032

[其它] SI0056-Resource-源码

说明:SI0056-资源 文件夹ini berisikan contoh-contoh penyelesaian dari模型/ algoritma dengan R编程yang dibahas dalam mata kuliah Inteligensi dan Analitika Bisnis Modul 04-R简介 Modul 05-描述性分析简介 Modul 06-业务分析流程和数据探索 Modul 07-分类 模08-简单线性回归 模09-多元线性回归 模数10-时间序列预测 模组11-丛
<weixin_42156940> 在 上传 | 大小:343040

[其它] 配电网负荷变化下的故障定位

说明:配电网负荷变化下的故障定位
<weixin_38628920> 在 上传 | 大小:201728

[其它] totem_proyect:原图腾-源码

说明:totem_proyect:原图腾
<weixin_42180863> 在 上传 | 大小:20480

[其它] plantplaceph-源码

说明:植物地 该项目是使用版本11.1.1生成的。 开发服务器 为开发服务器运行ng serve 。导航到http://localhost:4200/ 。如果您更改任何源文件,该应用程序将自动重新加载。 代码脚手架 运行ng generate component component-name生成一个新的组件。您还可以使用ng generate directive|pipe|service|class|guard|interface|enum|module 。 建造 运行ng build来构建项目。构建
<weixin_42129970> 在 上传 | 大小:4194304

[其它] Databases-Entity-Framework:SoftUni课程-源码

说明:数据库实体框架 SoftUni课程
<weixin_42133861> 在 上传 | 大小:126976

[其它] PythonStudy:我对python的研究-源码

说明:Python研究 我对python的研究
<weixin_42134117> 在 上传 | 大小:7168

[其它] Gigabyte技嘉GA-Z97X-UD7 TH主板BIOS驱动程序下载

说明:支持 Intel第4代/第5代Core 处理器 双雷电2新一代高速传输接口 支持多卡互联技术 数字供电设计 支持10Gb/s超高传输速率的SATA-E接口 Realtek ALC1150 115dB超低信噪比音频芯片+后窗接口音频功放芯片 INTEL千兆高速网卡+ CFOS Speed网络加速软件 技嘉独家两倍
<weixin_38725015> 在 上传 | 大小:9437184

[其它] AlgorithmVisualizer-源码

说明:这是什么 这是为Tech With Tim codejam设计的算法可视化工具 里面有什么 它包含一个由pure javascr ipt和html和css制成的可视化工具。 关于 学分 由Devesh Das或 CodingWith3DV制作,这是我的YouTube频道名称。
<weixin_42122986> 在 上传 | 大小:15360

[其它] EraCoSysMed-INSPIRATION.github.io-源码

说明:EraCoSysMed-INSPIRATION.github.io
<weixin_42135754> 在 上传 | 大小:20480

[其它] 半导体电子气体行业报告:电子特气

说明:化学气相沉积(CVD)过程中的电子气体用来生成沉积薄膜;CVD 是利用真空状态下,多种气体混合并发生化学 反应最终将反应物沉积成膜的过程。不同的沉积薄膜需要不同的电子气体,在 SiO2 的沉积中,会使用到硅烷,原硅 酸四乙酯(TEOS)等等气体。在氮化物沉积层中,使用氨气(NH3),硅烷,SiCl2H2,在钨沉积中使用 WF6,硅烷, 而 TiN 薄膜制备中需要 TiCl4 和氨气等等 化学气相沉淀的反应物大部分都是以气体形态存在。比如在二氧化硅介质(SiO2)和氮化硅(Si3N4)介质的生 成
<weixin_38728464> 在 上传 | 大小:2097152
« 1 2 ... 18 19 20 21 22 2324 25 26 27 28 ... 434774 »