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文件名称: 机械设计基础考试密卷
  所属分类: 专业指导
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  文件大小: 740kb
  下载次数: 0
  上传时间: 2009-12-14
  提 供 者: rrda*****
 详细说明: 构件是机器的 单元体;零件是机器的 单元体;部件是机器的 单元体。 T-2-2-02-2-4、平面运动副可分为 低副 和 高副 ,低副又可分为 转动副 和 移动副 。 T-2-2-03-2-2、运动副是使两构件接触,同时又具有确定相对运动的一种联接。平面运动副可分为 和 。 T-2-2-04-2-1、平面运动副的最大约束数为 2 。 T-2-2-05-2-1、机构具有确定相对运动的条件是机构的自由度数目 等于 主动件数目。 T-2-2-06-2-1、在机构中采用虚约束的目的是为了改善机构的 和 。 T-2-2-07-2-1、平面机构中,两构件通过点、线接触而构成
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