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KLA-Tencor推出达到关键性45nm晶片几何度量要求的完整度量解决方案
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上传时间: 2020-11-26
详细说明：KLA-Tencor 公司推出了 WaferSight 2，这是半导体行业中第一个让晶片供应商和芯片制造商能够以 45nm 及更小尺寸所要求的高精度和工具匹配度，在单一系统中度量裸晶片平面度、形状、卷边及纳米形貌的度量系统。凭借业界领先的平面度和纳米形貌测量精度，加之更高的工具到工具匹配度，WaferSight 2 让晶片供应商能够率先生产下一代晶片，并让集成电路 (IC) 制造商对未来晶片质量的控制能力更具信心。
领先的光刻系统供应商的研究表明，在 45nm 工艺中，晶片平面度的细微差异会消耗高达 50% 的关键光刻焦深预算。在 KLA-Tencor 公司 WaferSight 1
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