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上传时间: 2020-12-10
详细说明：粟鹏义1， 陈开盛2，曹庄琪1(1.上海交通大学，上海，200052 ; 2.上海光刻电子科技有限公司，上海，200052)摘要：介绍了集成电路行业中在光刻版数据处理时的工艺涨缩问题，分别讨论了正涨缩和负涨缩问题，涨缩与反转处理的次序问题，尤其对位于版图边沿图形的涨缩进行了详细的讨论，并且提出了一种电子设计自动化软件的解决方案和实际结果。 关键词：光刻版；光刻；电子设计自动化；集成电路 中图分类号：TN305 文献标识码：A 文章编号：1003-353X(2003)07-0020-031引言 集成电路（IC）是现代信息技术的核心和电子整机的心脏。硅基集成电路的平面工艺和图形光刻仍然是当今大规模
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