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上传时间: 2020-12-10
详细说明：EUV蚀刻技术使最小线宽达30nm 全球第一款利用远紫外线(extreme ultra vio-let EUV)蚀刻技术制造计算机芯片的完整设备原型机近日在美国问世。这个命名为：“工程试验支架”(ETS)的原型机是由美国能源部下属的3个实验室和EUV LLC的半导体企业联盟共同开发的。 目前芯片制造商普遍使用深紫外线光刻技术，而且已有很多芯片制造商转向0．131xm的芯片制造工艺，但这种深度紫外线蚀刻工艺在理论上仅能使印刷电路的最小尺寸为0．11xm，当印刷电路的最小线宽达到0．1 1xm时，摩尔定律就会遭遇瓶颈，估计INTEL和AMD等芯片制造商到2004年或2005年就会碰到
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