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上传时间: 2020-12-09
详细说明：课程内容： 1 常规光刻技术存在的问题 1.1 常规曝光技术存在的问题 1.2 常规腐蚀技术存在的问题 2 其它曝光技术 2.1 投影曝光技术 2.2 电子束曝光技术 2.3 x射线曝光技术 2.4 共模复印曝光技术 3 其它刻蚀技术 3.1 圆桶型等离子体刻蚀 3.2 平板型等离子体刻蚀技术 课程重点：本节介绍了其它光刻技术。首先讨论了上述几节介绍的常规光刻技术存在的问题，如常规曝光技术存在的分辨率不高、以及设备和接触变形问题；又如常规腐蚀技术存在的由于湿法腐蚀引起的侧向腐蚀
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