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上传时间: 2020-12-09
详细说明：5月23日，Intel宣布第二次重新调整自已光刻的发展策略，将放弃采用157nm的光刻机。这一消息的公布，将极大地影响半导体设备制造业及材料供应商。Intel最初将希望寄托在发展157nm的扫描型光刻机，目的是在2007年时用在45nm结点工艺中。此次，Intel没有将157nm光刻机作为发展32nm结点的理由，其中最主要原因是157nm的镜头材料，氟化钙太贵，缺乏供应商。相反，Intel却试图扩展193nm光刻机的功能到下一代微处理器的发展中，包括90nm，65nm及45nm结点。Intel表示仍坚持每两年一个循环，来实现公司的工艺技术发展目标.但是在实现45nm结点中，Intel改变了现有
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