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传感技术中的0.18μm铜金属双重镶嵌工艺中空间成像套刻精度分析(二)
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上传时间: 2020-12-09
详细说明：(续)2 利用CD-SEM的OVERLAY度量对于我们所进行的Overlay精度研究而言，找到一种适当、独立的基准测量方法非常重要。CD-SEM(线宽—扫描电子显微镜)方法因其自动化性能和较高的产出率，而被认为是适合于Overlay测量的方法(在研究中我们使用了KLA8100XP CD-SEM)。与光学的Overlay度量方法相比较，CD-SEM方法能够获得更高的放大倍率，而且还能够直接实施对裸晶结构的Overlay测量。尽管存在很多的局限性，我们还是会重视这一方法。通常光学透明的薄膜对电子束是不透明的，这意味着通过CD-SEM，是无法看到被薄膜(叠层)覆盖前一阶段的工艺层(基准boxes)，
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