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上传时间: 2020-12-08
详细说明：Sigma-C和Mentor Graphics公司共同为IC设计团体带来了曙光。设计者们一直希望他们的设计进入制版工艺前，能在IC布局中发现并修正光刻中的过热点。为此Sigma-C公司已经推出了专为设计和OPC(optical-proximity correction，光学邻近校正)应用的Solid＋微光刻模拟器。 与此同时，Mentor Graphics的Calibre小组也向掩模制造者推出了一种工具。该公司称，这种产品领先的基于像素的模拟引擎为更强大的产品（即今年将推出以设计为核心的微光刻模拟器）奠定了良好的基础。目前，处理的几何尺寸已经减小到90nm以下，掩模成本高达数百万美元。因此D
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