文件名称:
在氧化层生长过程中模拟Al1060在800-910 K时的正常光谱发射率
开发工具:
文件大小: 598kb
下载次数: 0
上传时间: 2021-03-17
详细说明：这项工作旨在模拟在空气中氧化物层在800到910 K的温度范围内生长过程中铝1060的正常光谱发射率。因此，已在6小时的加热条件下测量了铝1060的正常光谱发射率。在一定温度下的周期。 在我们的实验中，来自样品的辐射被InGaAs光电二极管检测器接收， 作品 在 1.5 微米 和 这 带宽 的 20 纳米 这 温度 的 样品 表面 是 通过平均对称焊接在前表面的两个铂铑热电偶来测量 的 样品 靠近 这 测量 区域 由检测器查看。 强 振荡 正常的 光谱发射率 有 是 观测到的 和 讨论过 确认已连接 和 这 厚度 的 氧化物 层 在 这 样品 表面， 和 起源 从 这 干涉 影响 之间 这 辐射来自样品表面的氧化层，辐射源来自基片。 仅由表面氧化作用引起的正常光谱发射率的不确定度约为4.6-10.6％，而仅由表面氧化作用引起的温度的相应不确定度约为 3.5-8.4 K. 这 分析性的 模型 之间 正常的 光谱 发射率 和 这 加热 时间 是 在一定温度下进行评估。 具有指数和对数函数的简单函数形式可以用来很好地再现正谱的变化 发射率 和 这 加热 时间 在 一种 定 温度， 包括 这
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)
下载文件列表
相关说明
- 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
- 本站是交换下载平台，提供交流渠道，下载内容来自于网络，除下载问题外，其它问题请自行百度。
- 本站已设置防盗链，请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源，下载后用WinRAR最新版进行解压.
- 如果您发现内容无法下载，请稍后再次尝试；或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
- 下载后发现下载的内容跟说明不相乎，请到消费记录里找到下载记录反馈给我们，经确认后退回积分.
- 如下载前有疑问，可以通过点击"提供者"的名字，查看对方的联系方式，联系对方咨询.
