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衬底温度对紫外区四分之一波长GdF3薄膜性能的影响
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文件大小: 685kb
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上传时间: 2021-03-17
详细说明：在深紫外线（DUV）光刻中非常需要高质量的氟化物材料涂层。 通过热舟蒸发Craft.io在不同的基板温度下制备氟化Ga（GdF3）薄膜。 考虑到它们在DUV /真空紫外光学组件中的普遍使用，将GdF3薄膜设置为四分之一波长厚度（约27 nm）。 在相应的沉积温度下，这些薄膜的纳米结构性质可能会显着不同，这将严重影响多层的性能。 GdF3薄膜的光学，结构和机械性能的测量和分析已在一个完整的表征周期中进行。 已经发现，在相对较高的温度下沉积GdF3薄膜将在该膜厚范围内形成相当致密，光滑，均匀的结构。 （C）2015年美国眼镜学会
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