已经报道了通过使用双重显影的全息光刻技术来制造柱状二维光子晶体的简单且成本有效的方法。 在该过程中，直接在正性光刻胶上生成了二维大点型周期性结构，然后通过Si3N4硬掩模将其转移到基板上。 通过使用二次显影，可以有效地除去暴露于高强度和中等强度的光致抗蚀剂，而仍然可以保留暴露于低强度的光致抗蚀剂。 二维结构的周期可以通过调节两个入射光束的角度来容易地控制。 已经产生具有良好的均匀性和可再现性的，在相对大的面积上的大周期范围内的结构。 详细讨论了处理参数。