提出酶蚀卤化银明胶制作连续深浮雕微结构的新方法。给出了卤化银明胶酶蚀成像原理和深刻蚀过程机理的理论分析。求得存在吸收时，刻蚀深度与曝光量关系的解析式。表明胶膜对光的吸收是造成其非线性关系的主要原因，并提出了解决方案和优化工艺参数，通过实验得到在刻蚀深度为4 μm范围内有良好的线性关系，最后成功制作了良好面形的微柱透镜列阵。

提出一种制作连续微结构的实时灰阶掩膜技术，它将液晶显示(LCD)系统和投影光刻系统相结合，利用液晶显示系统实时显示一系列二值图形来获得连续的灰度记录，给出了原理分析。基于部分相干光成像理论，进行了微透镜制作的计算机模拟。建立了实验装置,并采用全色卤化银明胶(Kodak131)通过酶刻蚀得到半径为59.33 μm，深为1.638 μm的56×48微透镜列阵。