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搜索资源列表

  1. Handbook of VLSI MICROLITHOGRAPHY

  2. HANDBOOK OF VLSI MICROLITHOGRAPHY SECOND EDITION Principles, Technology, and Applications

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2009-09-25
    • 文件大小：6mb
    • 提供者：baiyingli17

  1. MicroLithography Secience & Technology.V2.part1.rar

  2. MicroLithography Secience & Technology.V2.part1.rar

  3. 所属分类：硬件开发

    • 发布日期：2008-01-30
    • 文件大小：3mb
    • 提供者：begincsdn

  1. MicroLithography Secience & Technology.V2.part2.rar

  2. MicroLithography Secience & Technology.V2.part2.rar

  3. 所属分类：硬件开发

    • 发布日期：2008-01-30
    • 文件大小：3mb
    • 提供者：begincsdn

  1. MicroLithography Secience & Technology.V2.part3.rar

  2. MicroLithography Secience & Technology.V2.part3.rar

  3. 所属分类：硬件开发

    • 发布日期：2008-01-30
    • 文件大小：3mb
    • 提供者：begincsdn

  1. MicroLithography Secience & Technology.V2.part4.rar

  2. MicroLithography Secience & Technology.V2.part4.rar

  3. 所属分类：硬件开发

    • 发布日期：2008-01-30
    • 文件大小：1mb
    • 提供者：begincsdn

  1. Evanescent wave imaging in optical lithography

  2. New applications of evanescent imaging for microlithography are introduced. The use of evanescent wave lithography (EWL) has been employed for 26nm resolution at 1.85NA using a 193nm ArF excimer laser wavelength to record images in a photoresist wit

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2010-08-25
    • 文件大小：1mb
    • 提供者：piggy2000

  1. microlithography

  2. Microlithography Science and Technology Second Edition By Kazuaki Suzuki Bruce W.Smith

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2011-01-02
    • 文件大小：15mb
    • 提供者：xiaoxin87

  1. Lithography Process Control_by Harry J. Levinson

  2. To understand this text there are some prerequisites. A basic foundation in lithography science is assumed. The SPIE Handbook on Microlithography, Micromachining and Microfabrication. Volume 1: Microlithography l provides a suitable introduction. It

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2015-05-25
    • 文件大小：13mb
    • 提供者：blueicebird

  1. Modeling the Imaging Chain of Digital Cameras _Robert D. Fiete

  2. 数字成像经典书，自购收藏。 Teaches the key elements of the end-to-end imaging chain for digital camera systems and describes how elements of the imaging chain are mathematically modeled using the basics of linear systems mathematics and Fourier transforms. The em

  3. 所属分类：机器学习

    • 发布日期：2019-03-03
    • 文件大小：23mb
    • 提供者：decodekr

  1. 光刻

  2. 光刻是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺（图4.7）。在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。被除去的部分可能形状是薄膜内的孔或是残留的岛状部分。 光刻工艺也被称为大家熟知的Photomasking, masking, photolithography, 或microlithography。在晶圆的制造过程中，晶体三极管、二极管、电容、电阻和金属层的各种物理部件在晶圆表面或表层内构成。这些部件是每次在一个掩膜层上生成的，并且结合生成薄膜及去除特定部分，通过光刻工艺过程，最

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-12-09
    • 文件大小：37kb
    • 提供者：weixin_38610717