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搜索资源列表

  1. 不同粒径粉末搭配对激光选区熔化IN738合金成形件表面粗糙度及内部缺陷的影响

  2. 不同粒径粉末搭配对激光选区熔化成形件的质量起着至关重要的作用。为此,系统研究了IN738合金不同粒径粉末搭配对粉末特性和成形件质量的影响,结果表明,成形粉末流动性随着粗粒径粉末体积分数的增加而增加,当粗细粉末（50%粒径为31~53 μm的粗粉和50%粒径为15~30 μm的细粉）相互搭配时,其粒径分布为D10为15.1 μm、D50为27.9 μm、D90为52.9 μm,成形粉末具有较高的松装密度和振实密度,成形件具有较好的表面粗糙度及较低的孔隙率和裂纹密度,致密度达到99.3%。研究发现,

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-22
    • 文件大小：26214400
    • 提供者：weixin_38622962

  1. 表面粗糙度测量的磁光位相调制和锁相干涉

  2. 提出了一种表面粗糙度测量的新方法.该方法采用了微分偏振干涉的原理,利用由法拉第磁光调制器所组成的调制系统对偏振干涉光路的位相进行调制,利用锁相干涉原理对位相进行探测.该方法可实现无参考面快速非接触测量,在普通实验条件下,也可保持良好的稳定性.实验装置即可给出表面的轮廓又可给出其它统计数据,其横向分辨率为1.2 μm,纵向为2 nm.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-13
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38630463

  1. 高表面粗糙度银纳米线的分形研究和SERS效应

  2. 为了获得分布均匀、有序排列、可重复性高的表面增强拉曼散射基底(SERS),选取银离子导体RbAg4I5薄膜,结合真空热蒸镀工艺和固态离子学方法在外加电流作用下制备出高表面粗糙度的银纳米线。同时,选取罗丹明6G(R6G)溶液作为探针分子,研究高表面粗糙度银纳米线作为SERS基底时的表面增强拉曼特性。实验结果表明:制备得到的银纳米线在宏观上呈现为树枝状,在微观上呈现为有序排列,并且其纳米结构的分形维数为1.59;采用银纳米线作为SERS基底时,能够检测到R6G溶液的浓度低至10 -17 mol/L。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：9437184
    • 提供者：weixin_38746951

  1. 基于多色散斑延长效应的表面粗糙度测量及影响因素分析

  2. 粗糙表面在多波长激光束照射下形成的多色散斑场显示出散斑延长效应,利用此效应可以测量表面粗糙度,并且测量结果在一定条件下不受粗糙表面横向特征的影响。通过模拟计算随机粗糙表面的多色散斑场,以空间平均的多色散斑场局部自相关函数研究了平均散斑延长率〈χ〉对表面轮廓均方根偏差σh的依赖关系,分析了测量系统因素,如入射激光波长组合、成像器件光敏单元尺寸和动态范围对测量结果的影响。结果表明,以空间平均的局部自相关函数代替集平均的散斑自相关函数描述多色散斑延长效应是有效的;为达到一定的粗糙度测量精度,应选择合适

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38664427

  1. 环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响

  2. 薄膜表面粗糙度是表征薄膜质量的重要指标,为了探求环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响,采用XeCl脉冲准分子激光器,分别在惰性气体氦气和氩气的不同气压环境下烧蚀沉积了纳米Si薄膜,用Tencor Instruments Alpha-Step 200台阶仪对相应薄膜的表面粗糙度进行了测量。结果表明,薄膜表面粗糙度开始随着气压的增大而逐渐增加,在达到一最大值后便随着气压的增大而减小。由不同气体环境下的结果比较可以看出,充氩气所得Si薄膜表面粗糙度比充氦气的小,最大粗糙度强烈地依赖于

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：327680
    • 提供者：weixin_38677806

  1. 一种表面粗糙度非接触快速测量的新方法

  2. 照射在样品表面的激光束随着表面粗糙度的不同，反射光密度分布将不同；表面粗糙度增大时，反射光密度将被扩展。本文根据这一原理，提出一种使用激光束快速测量表面粗糙度的无触点光学法。通过测量反射光密度分布曲线的半宽度，由高斯曲线系数的标准差计算表面粗糙度。文中给出了测量结果。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38702047

  1. 内表面粗糙度测量仪

  2. 介绍了一种基于光散射原理的便携式内表面粗糙度测量仪.它利用半导体激光器为光源,利用光电二极管阵列接收经粗糙表面调制的散射光带,通过测量该散射光的光学特征值,得出粗糙度参数.仪器的测量范围Ra为0.005-1.6μm,测量相误差δ<5%,重复测量不稳定性小于+_2%.可以对多种机械加工零件的内外表面进行非接触在线检测.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38617602

  1. 表面粗糙度对软X射线多层膜光学特性的影响

  2. 从理论和实验结果两方面探讨了基底表面和多层膜膜面的均方根粗糙度对软X射线多层膜的光学特性的影响。 指出了分析表面粗糙度最合适的方法和对表面粗糙度的着重研究方向。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：954368
    • 提供者：weixin_38687539

  1. 表面粗糙度的变波矢光散射测量方法的研究

  2. 提出了表面粗糙度变波矢光散射测量方法, 通过散射光强中心亮点光能量的对数ln Eδ随k2⊥变化的线性关系来确定粗糙度w, 对6块粗糙度不同的硅片背面样品进行了实验测量。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：489472
    • 提供者：weixin_38692707

  1. 在线测量表面粗糙度的共光路激光外差干涉仪

  2. 一种新型的、 用于在线测量表面粗糙度的激光外差干涉仪已研制完成。 该仪器体积小(25 cm×20 cm×10 cm)、 抗外界环境干扰能力强。 仪器以稳频半导体激光器作为光源。 共光路设计, 使测量光和参考光沿同一路径入射到被测表面上。 计大数和测小数周期相结合的外差信号处理方法, 实现了大的动态测量范围和很高的测量分辩率。 同时还采用了全反射临界角法进行自动聚焦。 该仪器的纵向和横向分辨率分别为0.39 nm和0.73 μm； 自动聚焦范围为±0.5 mm, 在焦点±25 μm范围内, 聚焦精

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：807936
    • 提供者：weixin_38687904

  1. 光学元件表面粗糙度对第三代同步辐射光源空间相干性的影响

  2. 以单丝的同轴全息干涉花样为判别标准, 通过计算机数值模拟, 研究了Be窗的表面粗糙度对硬X射线相干特性的影响。 提出了X射线在粗糙表面反射的一个简单模型, 以此为基础模拟研究了反射镜表面粗糙度对硬X射线及软X射线空间相干特性的影响, 模拟结果与实验结果相符。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38605590

  1. 薄Si膜对基底表面粗糙度的影响

  2. 利用ZYGO光学干涉测量仪,散射积分测量法观测了光学元件表面均方根粗糙度.详细分析了薄Si膜对基底均方根粗糙度的影响,由此认为薄膜并不总是复制基底表面的粗糙度,结果出现了薄膜降低表面粗糙度的现象,提出了一定厚度范围的薄Si膜的表面粗糙度存在着一个稳定值的新设想。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：1042432
    • 提供者：weixin_38657102

  1. 用图像处理技术实现磨削三维表面粗糙度测量

  2. 三维（3D）测量方法较二维（2D）测量能更全面地反映零件真实形貌的几何形状信息, 其参数统计特性好, 具有稳键性。提出了基于数字图像处理技术的测量零件表面粗糙度的三维测量方法, 并构建了表面粗糙度三维测量系统。对从数码相机所采集的图像进行了中值滤波、灰度平衡、直方图变换增强等处理, 并计算了平磨加工的五种不同粗糙度等级试验样块的三维参量, 对其均值m, 方差σ, 表面均方根偏差Sq, 陡峭度Sku和轮廓算术平均偏差Ra相关性进行了讨论。试验表明, 平磨加工样块的三维参数m, σ, Sq随Ra值的

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38611527

  1. 基于机器视觉的平磨表面粗糙度检测

  2. 为了对平磨表面粗糙度进行快速在线检测, 基于机器视觉原理提出了一种平磨表面粗糙度检测方法, 研究了平磨表面粗糙度评定参数。该方法利用CCD提取粗糙度Ra在0.1～1.6 μm之间的平磨表面图像, 运用中值滤波、图像边缘增强和图像二值化等对图像进行预处理, 然后通过特征参数提取平磨表面粗糙度信息。试验结果表明, 在入射光强为0.7×104～1.3×104 lux、入射角为30°～50°时, 均方根(RMS)差随Ra的减小而不断减小。当光源入射角在30°, Ra>0.3 μm的情况下, 陡峭度

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38751014

  1. 角度散斑相关方法表面粗糙度测量实验

  2. 基于角度散斑相关原理开展了对喷砂表面粗糙度样块的粗糙度测量实验研究。通过对散斑图像数据的处理和分析,提出了求取角度散斑相关系数最大值的滑动相关算法。该算法能有效克服表面不平度、波度等因素的不利影响。从最佳测量条件出发,提出了最佳入射角增量的概念,并在此基础上形成了包括散斑图像采集过程和图像数据处理方法在内的一整套表面粗糙度测量方法。该测量方法的核心是对被测表面的多个激光照明区域和多个激光入射角下的远场散斑图像的采集及数据处理。实验结果表明,应用本测量方法得到的轮廓均方根偏差最佳估计值σp与表面样

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38535132

  1. 利用总积分散射仪研究不同清洗技术下的基片表面粗糙度

  2. 为了探讨不同清洗工艺对基片表面微观粗糙度的影响, 利用总积分散射(TIS)仪分别对不同条件下超声清洗的K9玻璃基片,End-hall离子源清洗的K9玻璃基片和Kaufmann离子源清洗的熔石英基片的表面均方根(RMS)粗糙度进行了系统表征。结果表明, K9玻璃基片经不同条件下的超声波清洗后, 由于清洗过程中表面受到损伤, 其RMS粗糙度均有所增加; 而对于End-hall离子源和Kaufmann离子源清洗的基片, 其表面RMS粗糙度的变化受清洗过程中离子束流、清洗时间和离子束能量等实验参量的影响

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：801792
    • 提供者：weixin_38677046

  1. 基于干涉图像处理的表面粗糙度检测系统

  2. 为实现高精度量块表面粗糙度的快速、无损伤、自动化检测,研制了一套基于干涉图像处理的表面粗糙度检测系统。系统由干涉显微镜、数字CCD 摄像头和计算机组成。待测量块表面经干涉显微镜所成的干涉图像由数字CCD 摄像头采集并传输到计算机中,利用数字图像处理技术,对干涉条纹的边缘和中线进行提取,计算出量块表面粗糙度评定参数。提供了实测结果和测量不确定度评定,由测量重复性引起的不确定度为0.9 nm,总的展伸不确定度为3 nm。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38630853

  1. 离子束后处理对TiO2薄膜表面粗糙度的影响

  2. 利用电子束热蒸发技术在两种不同粗糙度的K9玻璃和一批单晶硅基底上沉积了单层二氧化钛(TiO2)薄膜,并对这些样片进行了氧离子后处理。采用泰勒-霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪(Talysurf CCI)分别对基底以及样片处理前后的表面粗糙度进行了研究,并用椭偏仪对离子处理前后的TiO2薄膜的折射率进行了测量。实验结果表明,TiO2薄膜对于基底具有一定的平滑作用;当基底粗糙度较大时,随着轰击离子能量的增加样片的表面粗糙度先减小后增加;当氧离子的轰击时间增加时,薄膜表面粗糙度会明显降低,随着轰击离子束

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38548589

  1. 玻璃基底和表面粗糙度在氮化硅薄膜椭偏测量中的影响

  2. 在光谱椭偏测量中，玻璃基底的背反射会给测量结果造成较大影响。针对平板显示器件玻璃基底表面氮化硅镀膜进行了椭偏测量和模型计算。采用相干背反射模型“空气基底空气”计算并拟合得到与厂商数据符合较好的玻璃基底折射率。对氮化硅薄膜采用Tauc Lorentz色散模型进行了分析拟合，讨论了薄膜与基底界面层、表面粗糙度对光学常数及模型拟合的影响，表明在薄膜与基底间晶格失配的情况下，界面层的引入对改善拟合度是必要的。给出了薄膜体系的光学常数、薄膜结构的分析结果。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38500944

  1. 激光-光学法测量表面粗糙度

  2. 在广泛的机械应用中，工件的表面粗糙度测量非常重要。有效地使用粗糙度测量方法可避免对加工表面提出不合理的过高要求，从而降低生产成本。目前加工表面的特征最常用的测量技术是触针法，即在微小测量压力下由一被牵引的钻石测头在被测表面滑动，提供较完整的横截面的测定。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-08
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38501363
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