文件名称:
Aluminum film microdeposition at 775 nm by femtosecond laser-induced forward transfer
开发工具:
文件大小: 192kb
下载次数: 0
上传时间: 2021-02-10
详细说明：Micro-deposition of an aluminum film of 500-nm thickness on a quartz substrate was demonstrated by laser-induced forward transfer (LIFT) using a femtosecond laser pulse. With the help of atomic force microscopy (AFM) and scanning electron microscopy (SEM), the dependence of the morphology of deposit
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