开发技术下载,其它下载列表第55823页

[其它] 30 kHz 窄瞬时线宽扫频激光光源的研制

说明：搭建了一个中心波长为1340 nm、扫频速度为30 kHz的光纤型窄瞬时线宽扫频激光光源，光源相位和光强稳定性高，扫频范围为10 nm，半峰全宽为6 nm，瞬时线宽小于0.018 nm，输出平均光功率为9.1 mW。实验扫频激光光源在傅里叶域锁模技术的基础上，使用精密度为5578、窄透射窗口的法布里-珀罗滤波器(FFP-TF)作为调谐滤波器，以腔内增益介质的自发辐射为背景光，经过单模长光纤后，到达FFP-TF 并对腔内的激光进行调谐滤波，最后稳定地输出窄瞬时线宽的扫频激光。讨论了影响光源瞬时线宽
<weixin_38613640> 上传 | 大小：1mb

[其它] 两电极静电同心球系统的成像电子光学及其空间-时间像差

说明：基于实际轨迹方程和电子运动方程对两电极静电同心球系统求解由光阴极逸出的运动电子的空间和时间轨迹，推导成像位置电子飞行时间的精确和近似表达式，并由空间和时间轨迹的解析解出发讨论系统的空间-时间特性. 对空间像差和时间像差给出统一的定义，即横向像差可视为近轴横向像差和几何横向像差的合成，时间像差可视为近轴时间像差和几何时间像差的合成，并导出了所有相应的像差表示式。
<weixin_38715831> 上传 | 大小：388kb

[其它] 镜像对称多孔硅光子晶体的折射率传感特性

说明：结合光子晶体的局域特性与多孔硅特有的光学特性，提出一种镜像对称多孔硅光子晶体折射率传感结构。基于分层传输矩阵法建立传感理论模型，得出缺陷波长与其基本结构参数的关系。改变多孔硅高低折射率层的结构参数，可使缺陷峰的半峰全宽变窄，进而使其品质因数(Q 值)得到提高。根据传输矩阵理论，对不同浓度甲醇蒸汽进入到该传感结构前后的反射光谱进行理论仿真，得出其光谱特性，推导出由于环境折射率影响引起的传感层等效折射率改变与缺陷峰漂移之间的数学模型，并进行数值模拟分析。结果显示：该传感器结构的Q 值为3114.75
<weixin_38734037> 上传 | 大小：2mb

[其它] 支持PMD的100 Gb / s光频域IM-DD传输系统

说明：支持PMD的100 Gb / s光频域IM-DD传输系统
<weixin_38656364> 上传 | 大小：289kb

[其它] 基于OIDFT或时间透镜的光学OFDM系统中用于降低PAPR的相位预加重

说明：基于OIDFT或时间透镜的光学OFDM系统中用于降低PAPR的相位预加重
<weixin_38641366> 上传 | 大小：1mb

[其它] 降低MB-OFDM认知无线电带外干扰的编码调制方法及其性能分析

说明：该文针对降低多频带正交频分复用(MB-OFDM)认知无线电系统带外干扰的要求,利用数学推导的方法,得出带外干扰的表达式,提出了一种以两个、四个或多个子载波分组的编码调制方法。该方法增大了带外信号衰减速度,从而产生满足要求的频谱凹槽深度,有效地降低对周围无线业务的干扰,最终达到认知系统和其它窄带系统的共存。另外,理论分析和仿真结果表明该编码调制具有另一个优点:Rayleigh信道中,一定的信噪比下可以获得更好的误码率性能。
<weixin_38720173> 上传 | 大小：652kb

[其它] 水射流抛光去除函数对面形误差修正的影响

说明：研究了水射流抛光条件下的去除函数特征，根据去除函数的一维轮廓特征采用分段解析函数拟合方法建立了去除函数的解析表达式。根据解析表达式采用Matlab 数值模拟方法对不同参数条件下的去除函数进行了一维叠加去除模拟，引入波纹度均方根值W
<weixin_38514620> 上传 | 大小：3mb

[其它] 基于SBS 和光场包络叠加的三角波产生技术

说明：提出并演示了一种结合外调制和受激布里渊散射(SBS)放大技术、通过信号包络恰当延时而叠加产生三角波信号的新方法。该方案中激光器发出的连续光分为两路，一路经过马赫-曾德尔调制器(MZM)产生频率为斯托克斯(Stokes)频移量三分之一的基频调制信号，另一路作为SBS 抽运光放大调制信号的正三阶边带获得三倍频谐波信号。两路信号的包络经过独立相位控制和功率调节，恰当延时后叠加可产生良好近似的三角波信号。通过改变连续光波长，产生的三角波信号频率可实现一定范围内的调谐。理论仿真和实验结果均证明了此方案的可
<weixin_38690089> 上传 | 大小：3mb

[其它] 极紫外光刻照明系统宽带Mo/Si 多层膜设计与制备

说明：针对极紫外光刻照明系统中一块小尺寸反射镜大入射角带宽的需求，采用Si层有效厚度与公转速度关系式和多层膜周期厚度与公转速度关系式，完成了宽带Mo/Si多层膜设计膜系的制备工作。在磁控溅射镀膜机上制备了一系列不同周期厚度和G 值(Mo层厚度与多层膜周期厚度的比值)的Mo/Si多层膜规整膜系，并利用掠入射X 射线反射谱表征，分别得到多层膜周期厚度、Mo层有效厚度和Si层有效厚度与公转速度的关系式以及多层膜界面粗糙度。采用Levenberg-Marquardt 算法完成了宽带膜系设计，设计结果为在16.
<weixin_38609571> 上传 | 大小：2mb