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  1. 激光光热反射技术对薄膜热物性的表征

  2. 在考虑探测光束光斑尺寸对调制光热反射(MPR)信号影响的基础上,建立了三维的薄膜-衬底体系的激光光热反射理论模型。对利用激光光热反射技术测量薄膜热物性的可行性进行了研究,并对影响调制光热反射信号的材料参数进行了分析。此外,通过数值模拟研究了多参数拟合问题,即利用调制光热反射频响信号同时确定薄膜热扩散率、衬底热扩散率和界面热阻这三个物理参数。结果表明,与已有的径向扫描方法相比,频率扫描方法中的这三个参数之间并不存在高度的相关性,因此采用频响信号进行多参数拟合,可提高多参数拟合的收敛性和精确性。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-26
    • 文件大小:1011712
    • 提供者:weixin_38601446
  1. 苏修的薄膜涂镀技术落后于美帝

  2. 在薄膜涂镀方面,苏修的研究似乎落后于美帝三年。美帝布鲁默研究公司的总经理布鲁默最近参观了苏修列别捷夫物理研究所,他说,“他们正在解决我们三年以前遇到的许多问题。”但是苏修似乎决心获得最新的装备和技术。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-25
    • 文件大小:470016
    • 提供者:weixin_38748055
  1. 功率对射频磁控溅射生长ZnO薄膜性能的影响

  2. 通过使用不同溅射功率的射频(RF)磁控溅射技术,在石英衬底上生长了氧化锌(ZnO)薄膜,该技术将其功率从10 W调整到200W。发现溅射功率起着重要的作用。在电影的成长过程中。 检查了结晶度,吸收和光致发光(PL)的特征。 此外,还通过使用原子力显微镜(AFM)观察了膜的表面形态。 在生长过程中增加功率后,以150 W的RF功率沉积的薄膜显示出最佳的晶体质量和光学性能。 150 W的拐点是可检测的。 据估计,这种趋势是由于由增大功率引起的从ZnO靶溅射出的颗粒的增强而引起的。 这些结果表明,溅射
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-24
    • 文件大小:655360
    • 提供者:weixin_38687218
  1. p型掺杂Fe的CuCrO“ 2半导体薄膜的磁,电和光学性质

  2. 通过脉冲激光沉积制备具有c轴准外延取向的Fe掺杂CuCrO2铜铁矿薄膜,该薄膜具有相当好的p型导电性,TC远高于室温的铁磁性,并且在可见光范围内具有较高的透明度。 研究了铁浓度(0-15 at%)对组织和物理性能的影响。 用Fe3 +代替Cr3 +会引起晶格膨胀,这有利于氧的插入并因此产生较高的空穴浓度。 因此,p型电导率显着提高到28 S cm-1。 此外,Fe3 +的引入导致空穴介导的Fe3 + -Cr3 +超交换耦合负责室温铁磁性。 当居里温度⩾550K时,随着Fe浓度的增加,饱和磁化强度
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-24
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38699726
  1. 基于平板夹具的电子束蒸发沉积薄膜中的挖坑效应分析

  2. 电阻加热具有比较好的加热均匀性,可以认为对于非升华性材料,具有比较理想的平面源发射特性n=1。而电子束加热时,通常n=2~3,甚至可以为6,发射特性参数的范围大,没有取值指导理论或规律,具有很大的不确定性,这对分析薄膜均匀性非常不利。采用细分蒸发源为无数个小的面蒸发源的思想,建立了镀膜材料出现挖坑效应时薄膜厚度均匀性的分析模型。分析结果表明电子束蒸发方法很难获得理想的平面蒸发源,不同程度的挖坑效应将使得n值不同程度地偏离n=1,挖坑效应越明显,n值越大。可以从镀膜机结构设计及薄膜沉积工艺选取两方
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-23
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38551431
  1. 高反射光学薄膜的温度稳定性分析

  2. 利用高桥模型讨论了高反射光学薄膜的温度稳定性问题,理论上着重分析了高反射膜主反射光谱带边缘线性区域波长位置处反射率温度系数以及膜料和基底热物理参数对它的影响,得出该系数正比于膜料的热物理参数,而反比于基底的线性热膨胀系数。对于文中分析的样品,其温度稳定性受高折射率材料的折射率温度系数影响最大。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-23
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38681318
  1. 昆明物理研究所分子束外延碲镉汞薄膜技术进展

  2. 碲镉汞(MCT)自从问世以来一直是高端红外(IR)探测器领域的首选材料,分子束外延碲镉汞技术具有低成本异质外延、材料能带精准调控、原位成结等优势,是第三代红外焦平面陈列(FPA)器件研制的重要手段。本文报道了昆明物理研究所分子束外延(MBE)MCT薄膜技术进展,包括材料结构、晶体质量、表面缺陷、材料均匀性、掺杂浓度等参数优化控制的研究结果。异质衬底、碲锌镉衬底上MCT薄膜尺寸分别为4英寸(10.16 cm)及2.5 cm×2.5 cm,材料EPD值分别在1×106 cm-2附近及(3~30)×1
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-21
    • 文件大小:17825792
    • 提供者:weixin_38731226
  1. 聚酰亚胺基底金属薄膜激光刻蚀温度场分布

  2. 为研究脉冲激光刻蚀聚酰亚胺基底镀金属薄膜过程,采用有限元软件COMSOL Multiphysics构建高斯脉冲激光辐照复合材料的2维非稳态物理模型,通过求解热传导方程计算不同功率激光辐照金属薄膜的温度场分布,讨论不同激光参数对刻蚀进程的影响。模拟结果表明:刻蚀深度主要受激光功率密度的影响,且随着金属薄膜厚度的增加,激光刻蚀深度先减小后保持不变。在刻蚀过程中,为了更好地保护基底,应选择大功率短脉宽的激光参数;由于铜薄膜比铝薄膜更难刻蚀,在铜薄膜的刻蚀过程中应选择较大功率密度的激光。结果有助于理解激
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-13
    • 文件大小:6291456
    • 提供者:weixin_38713099
  1. 光学薄膜塔姆态诱导石墨烯近红外光吸收增强

  2. 提出了一种增强石墨烯光吸收率的布拉格光栅/石墨烯/金属薄膜光学结构。运用传输矩阵和时域有限差分法研究了其光传输特性, 发现布拉格光栅与金属薄膜之间形成的塔姆等离激元局域场可有效增强光与石墨烯的相互作用, 单层石墨烯的近红外光吸收率约增大了36倍。探讨了布拉格光栅的周期、石墨烯位置、入射角度、布拉格光栅层厚度及石墨烯化学势与石墨烯光吸收的关系。研究结果表明, 上述物理参数的变化可有效调控石墨烯的光吸收波长及效率。研究结果为高性能石墨烯探测器等新型光电子器件的实现提供了新的途径。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-12
    • 文件大小:4194304
    • 提供者:weixin_38638688
  1. 多样品法确定类金刚石薄膜的光学常数与厚度

  2. 采用乙烷气体辉光放电法在单晶Si衬底上制备了名义厚度分别为75,150和250 nm的类金刚石碳(DLC)薄膜,除沉积时间外其他工艺参数完全一致。使用可变入射角光谱型椭偏仪(VASE)测量了380-1700 nm波段的椭偏谱。该研究发现,对单一DLC样品的椭偏数据进行分析时,一定的范围内,假定不同的薄膜厚度均可以得到非常好的拟合结果。结果表明,采用单样品椭偏法拟合时,厚度与光学常数呈现出强烈的关联性,无法快速获得准确的结果。采用多样品椭偏法,对三个样品建立相同的物理模型,假定他们的光学常数相同,
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-12
    • 文件大小:2097152
    • 提供者:weixin_38674627
  1. 导模共振滤光片表面镀膜对其物理特性的影响

  2. 为了研究亚波长光栅表面上薄膜的生长特性,以及镀膜对亚波长光栅物理特性的影响,对亚波长正弦槽形光栅表面上镀的Au膜进行了实验研究和理论分析。实验发现,当光栅槽深为80 nm,Au膜为100 nm时,薄膜的生长是仿形生长,光栅的正弦槽形特征和周期都基本没有发生变化,但镀膜后,出现光栅的正弦占空比增加、槽的深度减小以及槽深的均匀性变差等现象。对引起这种现象的原因进行了分析,提出了由于光栅微结构而给薄膜生长带来的阴影效应现象,并分析了正弦占空比增加对导模共振滤光片光谱特性的影响。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-12
    • 文件大小:3145728
    • 提供者:weixin_38564003
  1. 电沉积制备金属锡薄膜负极材料及其电化学性能研究

  2. 通过电沉积法,控制电流密度在铜箔上得到不同形貌的金属锡薄膜,采用扫描电子显微镜、X射线衍射、恒流充放电测试、循环伏安、交流阻抗法对其进行物理和电化学性能表征。结果表明:当电流密度为2 mA/cm2,所得金属锡薄膜表面最为致密,结晶度最高;将其作为负极材料组装成CR2025扣式电池,首次放电比容量为752 mAh/g,库伦效率为81.65%;30个循环后,放电比容量仍然维持在350 mAh/g。此外,该金属锡薄膜电极具有较高的电子导电性和锂离子扩散能力,其电荷转移电阻和锂离子扩散系数分别为113.
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:4194304
    • 提供者:weixin_38621386
  1. 复合纳米光学变色薄膜

  2. 用热蒸发和磁控溅射的物理镀膜方法和溶胶凝胶化学涂布的方法相结合制备了有机和无机复合纳米光学变色薄膜。光学变色薄膜为多层薄膜,当有自然光进入光学变色薄膜时,随着入射光和视角的变化在薄膜上可以看到明显的光变色效果。这种薄膜可以单独或与油墨组合作为一种新颖的防伪材料。根据多层复合膜光干涉原理经设计和计算确定薄膜为PET/Cr/介质/Al膜系结构。介质分别是有机高聚物和SiO2。SiO2是多孔纳米材料,用溶胶凝胶方法制备,通过调节催化和凝胶的方式和条件,折射率在 1.15~1.45 之间。介绍了制作方法
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:687104
    • 提供者:weixin_38721119
  1. 偶氮分散红聚合物薄膜的Z扫描研究

  2. 采用单光束Z扫描技术对新型光学存储材料偶氮分散红聚合物的薄膜样品进行了测量。实验结果表明,该样品的非线性折射率为负值。为消除非线性吸收的影响, 将实验所得有孔Z扫描曲线除以开孔Z扫描曲线进行了处理。从Z扫描曲线的实验数据处理得到这种新型偶氮分散红聚合物薄膜材料的非线性折射率为: -5.5×10-6 cm2/W,其值比常见无机非线性光学材料大8~9个数量级, 是一种很有应用前景的新型光学存储材料。最后,对这种偶氮聚合物薄膜具有大的非线性折射率的物理机制进行了分析。初步认为:在线偏振光照射下,偶氮分
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:605184
    • 提供者:weixin_38617001
  1. 三氧化钨电致变色薄膜最佳掺杂含量的理论计算

  2. 介绍电致变色薄材料最佳掺杂含量的定量理论.该理论建立了电子薄膜材料的某一物理性能与晶体结构、制备方法和掺杂剂含量之间的联系,给出了一个能够拟合实验曲线的具有确定物理意义的抛物线方程.该方程的极值点确定了最佳掺杂含量与晶体结构和制备方法之间的定量关系,进而得到了一个最佳掺杂含量的表达式.分析三氧化钨电致变色薄膜材料的掺杂改性的实验结果,应用最佳掺杂含量表达式定量计算了三氧化钨以及三氧化钼电致变色薄膜材料的最佳掺杂含量,定量计算的结果与实验数据相符合.该理论方法也适用于其他材料最佳掺杂粒子数分数的理
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:90112
    • 提供者:weixin_38743076
  1. 氧化物薄膜抗1064 nm脉冲激光损伤的特性研究

  2. 对几种氧化物介质膜料的单层膜、增透膜及高反膜的激光损伤特性进行了实验研究,分别测试了单脉冲和多脉冲1064 nm激光的损伤阈值,分析和讨论了实验的物理现象及其结果。研究表明SiO
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38675969
  1. 显微数字散斑相关测量新型薄膜的力学性能

  2. 利用显微数字散斑相关方法(DSCM)对新型高分子薄膜材料力学性能进行了研究。通过实时获取高精度的变形位移场,得到应变场与力学性能之间的关系,实现了新型高分子薄膜的力学性能分析。利用该方法对聚酰亚胺-二氧化硅合成薄膜进行面内位移测量,由薄膜的应力-应变曲线完成了薄膜材料的弹性模量测量;将离面位移的测量转化为面内位移的测量,对聚氨酯-钛酸钡复合高分子材料的电致伸缩应变进行了测量,从而获得电致伸缩系数,实现了材料的电致伸缩性能分析。采用亚像素搜索和曲面拟合相结合的方法进行数据处理,并对结果进行了分析。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:508928
    • 提供者:weixin_38687218
  1. 高聚物-富勒烯体系薄膜微微秒三倍频效应研究

  2. 采用50 ps的1.06 μm基频光,对用物理喷束淀积方法制备的聚乙烯咔唑Poly(N-vinylcarbazole)(PVK)-富勒烯(C60)组合薄膜进行三倍频信号测量,在PVKC60分层膜与混合膜中观测到三倍频信号增强,考虑到两者之间的电荷转移效应,在分层膜中,把该三阶非线性增强归因于PVK与富勒烯C60之间的电荷转移所生成的载流子引起的电偶极矩和极化强度增强;在混合膜中,则是电荷转移所生成的络合物起主要作用。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38547532
  1. MO/PVA薄膜材料在Ar

  2. 报道了甲基橙偶氮染料掺杂的聚乙烯醇(MO/PVA)薄膜材料在Ar+激光488.0 nm线预辐照下,用正交线偏振的632.8 nm光作为写入光,通过旋转样品,在同一光斑内形成多个取向不同的相位光栅,实现了多重全息存贮的实验结果。在三重图像的存贮中,通过控制每次的写入时间,得到了三个均匀明亮的衍射图像,其平均衍射效率为0.1%。实验发现,该全息图可用红光长时间再现,而仅有较弱的擦除作用。用四能级结构模型对多重存贮的物理机制进行了探讨。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38672940
  1. 新型物理喷束淀积技术制备富勒烯薄膜

  2. 建立了一套新型物理喷束淀积装置,并且成功地进行了薄膜制备工作。所制备的薄膜包括C60,C70,PVK,PVK/C60等薄膜,并测量了物理喷束淀积技术制备得的C60薄膜、PVK/C60混合膜的吸收光谱、荧光光谱、时间分辨率荧光光谱。与C60等薄膜的高真空蒸发膜的相应光谱进行了比较,结果表明,物理喷束淀积可以制备具有很好质量的高抗光损伤薄膜,薄膜的荧光衰减特性与蒸发膜有很大差别。采用该法制备的PVK/C60混合膜中已形成电荷转移络合物。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:980992
    • 提供者:weixin_38606019
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