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搜索资源列表

  1. 薄膜结构X射线表征---麦振洪

  2. 这是中科院研究生院近代固体物理分析方法的课程之一，版权归麦振洪老师所有，主要讲述x射线分析波膜结构的知识，只提供给大家学习x射线这门课程使用，不得用作商业用途

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2009-10-26
    • 文件大小：12582912
    • 提供者：diamondzh

  1. 石英晶体监控膜厚仪的发展与应用

  2. 石英晶体振荡监控光学薄膜厚度是直接监控光学薄膜物理厚度的方法,与工作波段无关,设置简单,各种厚度皆可控制,易于实现自动控制,将会越来越广泛地应用在光学薄膜厚度监控中。本文首先介绍了石英晶体监控膜厚仪监控光学薄膜厚度的原理,然后讨论了石英晶体监控仪的发展和晶振片的稳定性。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-05
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38695061

  1. LBO晶体上1064 nm,532 nm二倍频增透膜的设计及误差分析

  2. 采用矢量合成法设计了LiB3O5(LBO)晶体上1064 nm,532 nm二倍频增透膜,在1064 nm处的反射率为0.0014%,532 nm处的反射率为0.0004%。根据误差分析,薄膜制备时沉积速率精度控制在+6.5%时,1064 nm处的反射率增加至0.22%,532 nm处增加至0.87%。材料折射率的变化控制在+3%时,1064 nm处的反射率达0.24%,532 nm处达0.22%。沉积速率和折射率控制的负变化不增大特定波长处的剩余反射率。与膜层折射率相比,薄膜物理厚度对剩余反射

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38725119

  1. 三硼酸锂晶体上1064 nm, 532 nm, 355 nm三倍频增透膜的设计

  2. 采用矢量法设计了三硼酸锂晶体上1064 nm、532 nm和355 nm三倍频增透膜,结果表明1064 nm、532 nm和355 nm波长的剩余反射率分别为0.0017％、0.0002％和0.0013％。根据误差分析,薄膜制备时沉积速率精度控制在＋5.5％时,1064 nm、532 nm和355 nm波长的剩余反射率分别增加至0.20％、0.84％和1.89％。当材料折射率的变化控制在＋3％时,1064 nm处的剩余反射率增大为0.20％,532 nm和355 nm处分别达0.88％和0.24

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：867328
    • 提供者：weixin_38523618

  1. 非晶态有机聚合物薄膜脉冲激光沉积

  2. 非晶态有机聚合物薄膜具有低介电常数，高强度等优良物理特性，在微电子工业领域有着潜在的应用价值而引起人们极大兴趣，本文就其沉积方法及沉积机制进行简要综述，并展望了其应用前景。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38721405

  1. 热丝CVD生长金刚石薄膜喇曼散射研究

  2. 本文报道热丝化学气相沉积法(HFCVD)生长金刚石薄膜的喇曼散射结果.选取多种峰型,对金刚石薄膜喇曼谱(1100～1800 cm-1)采用最小二乘法进行非线性拟合,得到最佳拟合模型,其计算得到的拟合曲线与实验谱图符合得较好.该模型揭示,石墨D峰(1355 cm-1)是金刚石薄膜喇曼谱中不可缺少的一个组份,并且结合石墨D峰和金刚石喇曼峰的空间相关线型,可以解释金刚石喇曼区特殊峰形的物理机制.拟合参量的进一步分析,可得出金刚石的晶体质量和金刚石薄膜中金刚石的含量.多个金刚石薄膜喇曼谱拟合结果表明,该

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38526914

  1. 光学薄膜自动设计的多目标优化方法

  2. 光学薄膜中已使用的优化方法都是单目标寻优的,通过分析光学薄膜优化设计的原理,将薄膜设计的物理问题归结为混合离散变量的多目标优化设计的数学模型,并认为这是薄膜设计的一般性模型,现行的单目标优化算法只是这个模型的简化。基于这一新思路,并结合多目标优化算法的研究现状,采用了一种基于免疫应答原理的智能型多目标优化算法。该算法隐含并行处理能力,原理上是具备全局搜索能力的自适应随机性算法。将此算法运用到光学薄膜设计中,给出了一些优化的设计实例。结果表明,将多目标优化算法引入薄膜设计的新思路是可行的,将来会有

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：889856
    • 提供者：weixin_38642636

  1. Gires-Tournois负色散镜误差分析

  2. 负色散镜的色散补偿性能对设计和制备的精度要求都非常高, 折射率和薄膜物理厚度是其性能准确实现的必要参数。实验设计并镀制了Gires-Tournois(G-T)镜, 结合电场强度分布及薄膜的群延迟色散(GDD)、扫描电镜的测量结果, 从材料折射率、膜层厚度、敏感膜层的变化及界面粗糙度等主要因素对Gires-Tournois镜群延迟色散性能的影响进行了分析。研究表明：设计时采用的材料折射率要根据实际实验计算得到; 群延迟色散量随着总的膜层厚度和腔的厚度增加而增加; 电场强度的分布决定色散补偿能力及敏

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：4194304
    • 提供者：weixin_38708707

  1. 从白光干涉曲线获取光学薄膜反射相位和物理厚度的新算法

  2. 设计了一套迈克耳孙白光干涉仪系统用于测量光学薄膜的反射相位,并由此反推单层薄膜的物理厚度。为补偿传统算法获取相位所存在的误差,提出一种新算法,以线性拟合结果作为初始猜想,采用多变量优化拟合总光程差曲线得到光学薄膜的相位。通过数值模拟的方式论证了理论上的可行性和高计算精度。采用多变量优化的手段进行处理实际测试的一组单层TiO2薄膜,所得物理厚度值与传统的光度法测试反演结果非常吻合。该测试系统和处理算法为快速精确测量光学薄膜厚度提供了一种新的解决方案。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38702844

  1. 直流反应磁控溅射制备掺铟ZnO透明导电薄膜的研究

  2. 本文介绍了掺铟ZnO透明导电膜的制备工艺.并应用半导体物理理论分析了薄膜的导电机理,用Drude理论建立了物理模型,分析与计算了薄膜从可见到红外光波段的光学性能,结果表明,理论计算与实测值两者符合得较好.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：5242880
    • 提供者：weixin_38616033

  1. MOC染料单分子层薄膜聚集体的吸收光谱研究

  2. 用吸收光谱对染料的Langmuir-Blodgett(LB)膜的聚集体在不同条件下进行了研究.典型的染料1-methyl-1’-octadecy1-2,2’-cyaninperchlorate(MOC)LB膜聚集体的吸收峰(J带)在580nm附近,吸收为0.09.刚制备好的样品随时间而改变其吸收特性,表明聚集体的结构在2hr后才趋于稳定;测定了不同样品J带的参数;吸收峰值波长位置和峰的半宽度,以及这些参数随温度的变化.吸收随温度变化的可逆性是LB膜聚集体用作光记录介质的一个物理基础.温度超过10

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：6291456
    • 提供者：weixin_38724363

  1. 用新方法测量薄膜厚度

  2. 把薄膜用于光学元件的基本物理思想几十年前就已众所周知。但在激光出现以前,多数薄膜是比较简单的，它们是单层防反射涂层或具有高、低折射率的1/4波片的简单堆迭。但随着激光的出现，薄膜变得前所未有的复杂。在过去二十年中，特定波长处的高反射率能经受非激光工作方式的大光通量，较严格的通带规范的限制等都是镀膜工作者所面临的困难。新的基底材料需有适当折射率的新镀膜材料。基底和镀膜材料要有极高的纯度。制造这种高度复杂薄膜是很困难的，薄膜光学特性的测量也很困难。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-08
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38715772

  1. 用激光曝光选择蚀刻铬薄膜

  2. 根据现有的模型，激光辐射对铬薄膜的热化学作用会导致被照射表面产生物理化学性质的变化,并生成氧化薄膜。一般认为，在记录高空间频率的结构时，必须用毫微秒脉冲序列使薄膜加热。不然，由于热从照射区流散,分辨率将会降低。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-08
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38514732

  1. 厚度对磁流体薄膜场致双折射效应的影响

  2. 研究了不同浓度磁流体薄膜样品的厚度对其场致双折射的影响。结果表明，固定磁流体浓度时，其双折射随样品厚度的增加而减小，且厚度不同的样品，其双折射随磁场的增加的变化趋势不同。对于薄样品，其双折射随磁场的增加而逐渐增加直至趋于饱和，而对于厚样品，其双折射随磁场的增加呈现非单调或“振荡”变化的现象。磁流体的浓度对其双折射的厚度依赖特性具有明显的影响，浓度越高，其双折射随磁场的增加开始呈现非单调或“振荡”变化时所对应的样品厚度就越小。详细分析了薄膜样品厚度和磁流体浓度对其双折射影响的有关物理机制，并定义了

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-08
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38647925

  1. 飞秒激光前向转移诱导产生金属纳米结构薄膜

  2. 使用掺镱光子晶体光纤飞秒激光放大系统作为加工光源, 利用激光诱导前向转移(LIFT)技术对铜膜进行加工, 产生纳米结构。通过控制飞秒激光光源参数, 得到不同纳米结构的金属薄膜。在功率较低时, 能够得到纳米团簇; 随着功率升高, 团簇尺寸变大; 到达一定功率时, 出现纳米线结构。通过实验分析了飞秒激光与材料相互作用时发生的物理过程。利用该机理, 对20, 40, 200 nm三种厚度的铜膜在相同实验条件下的实验结果进行比较, 获得了产生纳米团簇和纳米线结构薄膜的最佳条件。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-07
    • 文件大小：8388608
    • 提供者：weixin_38519619

  1. 近场显微成像法识别高功率激光镜片薄膜内部缺陷

  2. 采用近场显微成像法测量了高功率激光镜片薄膜表面裂纹和内部节瘤缺陷,并分析了它们的形成机制。100 nm孔径的圆锥形针尖辐射的倏逝波与薄膜中预埋的缺陷相互作用, 将倏逝波转化为辐射波后, 由物镜收集并在远场逐点成像,同步地获得薄膜表面的原子力显微镜(AFM)图像和扫描近场光学显微镜(SNOM)图像, 以便直观地识别缺陷产生的物理机制。结果表明：在倏逝波的有效作用区域内, 薄膜表面裂纹与内部节瘤可以同时精确地被识别。通过对比SNOM与AFM结果, 发现基底表面裂纹在镀膜过程中积累了残余应力, 这导致

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-07
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38695471

  1. 准波导结构染料薄膜中荧光和放大自发辐射的泄漏模特性

  2. 通过理论分析和实验测量，研究准波导结构染料薄膜中荧光和放大自发辐射（ASE）的泄漏模特性。理论上，考虑薄膜传输损耗及染料吸收损耗对准波导结构中泄漏模特性的影响，通过计算准波导结构中泄漏模的光强分布，给出了相应的物理机制分析；实验上，以棱镜为衬底制备染料薄膜，根据棱镜耦合法测量不同出射角对应的泄漏模的荧光与ASE光谱，验证理论的正确性。此外，采用光束分析仪探测各泄漏模式对应的荧光及ASE的光强分布，研究了准波导结构中ASE的激励特性。结果证明，荧光峰及ASE峰的红移以及泄漏模的激发是界面反射率、薄

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-06
    • 文件大小：4194304
    • 提供者：weixin_38676216

  1. 纳米金属薄膜中光子自旋霍尔效应的最佳弱测量

  2. 光子自旋霍尔效应是一种潜在的精密测量工具，在探测微结构材料结构参数变化的研究中具有重要的物理意义。基于光子自旋霍尔效应的弱测量模型研究了纳米金属薄膜中的光子自旋霍尔效应，研究结果表明当弱测量中放大角取相应的特殊值时（即最佳弱测量点），纳米金属薄膜中光子自旋霍尔效应的放大后横移值可达到最大，大大提高了光子自旋霍尔效应的探测精度；在最佳弱测量点得到的放大后横移可以更精确地推断出金属薄膜的实际厚度。实验结果与理论分析符合较好，该方法为研制基于光子自旋霍尔效应的精密测量工具提供了理论与实验基础。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-05
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38657984

  1. 薄膜衍射主镜基底面形误差的像差特性分析

  2. 基于衍射光线追迹和波前再现的方法, 建立了薄膜衍射主镜基底面形误差所引起波前误差的物理仿真模型。并以边缘褶皱面形和中心向外凸出球面面形两种典型的薄膜基底形变类型为例, 分别研究了两种面形误差对衍射主镜成像质量的影响, 讨论了这两种典型薄膜形变所引起的主要像差类型, 分析了衍射主镜波前均方根误差、面形峰谷值与光学系统斯特列尔比（SR）的相互关系, 为进一步研究薄膜衍射主镜的装配夹持和像差补偿提供了理论支撑。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-04
    • 文件大小：8388608
    • 提供者：weixin_38532629

  1. 离子辅助沉积对ZnS薄膜晶体结构及光学特性的影响

  2. 对不同离子束密度条件下辅助沉积的ZnS薄膜进行了物理及光学特性研究。研究结果表明,在离子束辅助沉积ZnS薄膜时会出现非均匀生长现象, 且非均匀性和折射率会随着离子束密度的增加而增大, 薄膜结晶程度也增加。薄膜的非均匀性增加了薄膜制备和设计的难度, 尤其是对多层膜系的制备造成了很大的不确定性。研究结果为红外光学ZnS薄膜的研制提供了重要参考。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-04
    • 文件大小：5242880
    • 提供者：weixin_38623000
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