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搜索资源列表

  1. 电源技术中的基于PDM控制的电晕处理电源的研究

  2. 1 概述 塑料与传统的包装材料(如纸、玻璃、金属)相比[1]，具有质轻、防潮、防腐、价廉、易成型等优点，塑料薄膜表面电晕处理原理是通过在电极上施加高频高压电源（对于塑料薄膜表面处理来说，电压一般在10kV～13kV之间，频率在10kHz～30kHz左右），使电极放电，气体电离后产生的各种能量粒子(如正负离子、电子、光子等)在强电场的作用下，加速冲击处在电极之间的高聚物表面，使表层分子连接的化学键断裂而绛解，增加表面的粗糙度。 电晕放电负载的物理结构和等效电路如图1所示。当电晕负载两端的外加电压

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-12-13
    • 文件大小：81920
    • 提供者：weixin_38657115

  1. 激光定域晶化技术制备纳米硅的研究

  2. 朱乐仪，黄信凡，王 立，王晓伟，马忠元，李 伟，陈坤基(南京大学物理系，固体微结构物理国家重点实验室，江苏南京 210093)摘要：利用相移光栅模板使KrF准分子激光形成强度周期分布的激光束，定域晶化a-Si：H(4am)／a-SiNx：H(10nm)多层膜中的超薄a-Si：H层，成功地制备出了三维有序分布的nc-Si阵列。原子力显微镜(AFM)、微区喇曼光谱、剖面透射电子显微镜(X-TEM)及高分辨电子显微镜HREM)技术分析揭示了晶化后薄膜中形成了横向周期与移相光栅周期相同、纵向周期与a-S

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-12-09
    • 文件大小：108544
    • 提供者：weixin_38738506

  1. Mini LED 行业深度报告

  2. 次毫米发光二极管（Mini LED）是新一代 LED 显示技术， 目前，小间距 LED 采用亚毫米级 LED晶体，实现点间距 2.5 毫米（P2.5）以下的显示屏；Mini LED 采用数十微米级 LED 晶体，实现P1.0 以下的显示屏；Micro LED 采用 1-10 微米 LED 晶体，实现 P0.1 及更小尺寸的显示屏。 Mini LED 的生产过程首先需要将 LED 通过微缩制程技术进行薄膜化、微小化、阵列化，使其尺寸仅为几十微米左右，再将 Mini LED 采用 COB 或者“四

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-24
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38669091

  1. 电子行业深度报告：Mini led有望快速起量

  2. 次毫米发光二极管（Mini LED）是新一代 LED 显示技术， 目前，小间距 LED 采用亚毫米级 LED晶体，实现点间距 2.5 毫米（P2.5）以下的显示屏；Mini LED 采用数十微米级 LED 晶体，实现P1.0 以下的显示屏；Micro LED 采用 1-10 微米 LED 晶体，实现 P0.1 及更小尺寸的显示屏。 Mini LED 的生产过程首先需要将 LED 通过微缩制程技术进行薄膜化、微小化、阵列化，使其尺寸仅为几十微米左右，再将 Mini LED 采用 COB 或者“四

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-23
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38626080

  1. 靶材行业报告：溅射靶材

  2. 镀膜的主要工艺有物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。（1）PVD 技术是目 前主流镀膜方法，其中的溅射工艺在半导体、显示面板应用广泛。PVD 技术分为真空蒸镀法、 溅镀法和离子镀法。三种方法各有优劣势：真空蒸镀法对于基板材质没有限制；溅镀法薄膜 的性质、均匀度都比蒸镀薄膜好；离子镀法的绕镀能力强，清洗过程简化，但在高功率下影 响镀膜质量。不同方法的选择主要取决于产品用途与应用场景。（2）CVD 技术主要通过化 学反应生成薄膜。在高温下把含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质引入反应

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-19
    • 文件大小：6291456
    • 提供者：weixin_38740596

  1. 可调忆阻器模型及其在小世界神经网络中的应用

  2. 本文介绍了由惠普（HP）实验室发现的TiO2薄膜忆阻器的新型数学模型。 我们提出的模型通过使用分段线性窗函数来考虑边界条件和非线性离子漂移效应。 与窗口功能关联的四个可调参数使模型能够捕获物理HP忆阻器的复杂动态。 此外，我们利用提出的忆阻器模型实现了突触连接，并为小世界多层神经网络提供了一种实现方案。 给出了仿真结果，以验证数学模型和神经网络在非线性函数逼近中的性能。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-25
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38687343

  1. 超短激光脉冲作用下等离激元“相变”特性研究

  2. 研究了金纳米颗粒在超短激光脉冲作用下发生的形貌变化, 以及由此导致的局域化表面等离激元共振光谱的变化, 即“相变”效应。利用化学合成的金纳米颗粒胶体制备由随机分布的金纳米颗粒阵列构成的薄膜。将飞秒激光脉冲作用于薄膜表面, 监测激光作用前后样品的显微结构图像和消光光谱的变化。实验结果表明：金纳米颗粒在激光脉冲作用下发生微区熔融、团聚等物理过程, 导致金纳米颗粒形貌发生变化和等离激元共振光谱红移。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-22
    • 文件大小：4194304
    • 提供者：weixin_38704830

  1. 输出红光的电子俘获材料及其在图像存储和减法中的应用

  2. 研究了输出红光的电子俘获材料的光学性质和物理机制。利用～200 μm厚的电子俘获薄膜在实验上证明了图像存储和图像减法的可能性。实验表明，这种材料对光存储和光学信息处理应用，具有很多有吸引力的优点，如：可擦除，可重写，高分辨，高速度，以及模拟和并行操作等。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38745648

  1. 光度法确定LaF

  2. 为了满足设计和生产多层膜系时精确确定薄膜材料光学常数的需要，建立一种基于透射率光谱包络来获取弱吸收光学薄膜光学常数的均匀模型。为消除基底背面反射对光学薄膜光谱性能测量的影响，给出一种非破坏性的薄膜光学特性校正方法，校正实测光谱数据获得光学薄膜的单面光谱，并给出确定基底光学常数的方法。研究钼舟热蒸发工艺制备的沉积在CaF2基底上的LaF3薄膜样品，并获得了刚沉积的和紫外照射处理40 min后的LaF3薄膜以及CaF2基底在160~340 nm的光学常数。结果表明，紫外照射处理可以提高LaF3薄膜的

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38645198

  1. 单层和双层材料中的脉冲激光超声数值模拟

  2. 用有限元方法数值模拟激光热弹机制激发单层和双层材料中的超声波。分别建立激光在单层和双层材料中激发瞬态温度场和热弹机制激发超声波场的有限元模型,该模型考虑了激光作用过程中材料的热物理参数依赖于温度的特性。在单层铝板的厚度小于激光激发的超声波的中心波长时,数值模拟得到了兰姆波,主要是低频的非色散的对称模和色散的反对称模。随着铝板厚度的增加,更高阶的模式可以在板中传播,波形向表面波转化,得到了掠面纵波和瑞利波。进一步计算了Ni/Al和Al/Cu这两种双层材料中的不同接收距离处的垂直表面位移。由于表面波

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：779264
    • 提供者：weixin_38695061

  1. 电荷转移金属[60]富勒烯盐的光电性质

  2. 用物理喷束淀积技术制备了过渡金属[60]富勒烯盐C60Ni薄膜,研究了Al/C60Ni/ITO光电池的光伏效应和正反向电学特性并与Al/C60/ITO膜进行了比较.用界面偶极电场解释了Al/C60Ni界面光伏效应和整流效应的增强,表明在该样品中发生的从Ni原子到C60的电子转移使Al/C60Ni界面偶极电场增强.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：125952
    • 提供者：weixin_38677648

  1. 对蓝宝石衬底上射频溅射的PbTiO

  2. 使用射频溅射和组合靶在蓝宝石(α-Al2O3)基底上制备出了结构较好的PbTiO3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其它物理特性的方法。得出了该薄膜在400nm～2400nm区域内的折射率、消光系数等参量与波长的变化关系和与之相符合的柯西(Cauchy)色散公式,并通过外推的方法估算出了薄膜的光学能量带隙为3.65eV。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：911360
    • 提供者：weixin_38695293

  1. 飞秒强激光产生沿靶表面出射高能超热电子束

  2. 在超短超强激光与固体薄膜靶相互作用研究中, 实验上首次观测到了沿靶面方向发射的高能超热电子束。该电子束只有在等离子体电子密度标长较短的条件下才会出现。理论模拟表明, 靶表面电磁场的约束作用是产生此电子束的主要原因。这一结果有助于加深对激光惯性约束聚变快点火实验中的锥靶物理过程的理解, 并有潜在的应用前景。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：335872
    • 提供者：weixin_38712416

  1. 4H-SiC基底Al

  2. 在4H-SiC基底上设计并制备了Al2O3/SiO2紫外双层减反射膜, 通过扫描电镜(SEM)和实测反射率谱来验证理论设计的正确性。利用编程计算得到Al2O3和SiO2的最优物理膜厚分别为42.0 nm和96.1 nm以及参考波长λ=280 nm处最小反射率为0.09％。由误差分析可知, 实际镀膜时保持双层膜厚度之和与理论值一致有利于降低膜系反射率。实验中应当准确控制SiO2折射率并使Al2O3折射率接近1.715。用电子束蒸发法在4H-SiC基底上淀积Al2O3/SiO2双层膜, 厚度分别为4

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38707153

  1. Er

  2. 采用射频磁控反应溅射技术, 在不同的Ar/O2流量比条件下制备了系列Er2O3薄膜样品。采用椭偏光谱和紫外-可见光透射光谱测试分析技术, 研究了Er2O3薄膜的折射率、消光系数、透射率和光学带隙等光学常数与制备工艺的关系。研究了不同条件下制备的Er2O3薄膜的介电常数和Ⅰ～Ⅴ特性。结果表明, Er2O3薄膜的折射率、禁带宽度和介电常数随Ar/O2流量比的增加而增加, 而消光系数基本不随Ar∶O2流量比的变化而变化。在Ar∶O2流量比为7∶1制备的Er2O3薄膜具有较好的物理性能, 在可见红外波段

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38554781

  1. 研究玻璃表面层参数的一种新方法——平板双面偏振光反射光强比的测量

  2. 力偏振光在玻璃或其它透明材料平行平板前后表面反射光强比值与入射角的关系。对样品表面层的物理参数(折射率、厚度和吸收)很敏感,特别是当表面层的折射率与平板基底的折射率很接近时,尤其明显。本文结出的薄膜光学为基础的数字模拟和初步实验结果。采用数值拟合的方法,根据比值与角度的实验曲线可以得出样品表面层的物理状态。本法设备简单,结果直观。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38674675

  1. In掩膜层超分辨光盘的读出研究

  2. 在超分辨光存储技术中，掩膜层材料是决定其性能优劣的关键。In薄膜可以作为掩膜层用来实现超分辨信息点的动态读出。采用直流磁控溅射法制备不同厚度的In薄膜，用台阶仪测量薄膜厚度随时间的变化关系，用原子力显微镜观察不同厚度薄膜样品的表面形貌。在预刻有尺寸为390 nm信息点的光盘盘基上制备In薄膜，从而形成In掩膜超分辨光盘。利用光盘动态测试仪进行动态读出，最高读出载噪比(CNR)达到26 dB。为了进一步分析超分辨动态读出的物理机理，采用变温椭圆偏振光谱仪测量In薄膜在不同温度下的光学常数，得到In

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38520258

  1. 对称金属包覆结构中反射光干涉效应的研究

  2. 提出了一种可同时达到高对比度和高反射率的对称金属包覆结构。由于导波层的厚度是亚毫米量级，使该结构可容纳一系列共振模。利用四层波导菲涅耳公式，详细分析了耦合金属层的厚度对耦合效率的影响，给出了反射光达到最大对比度时耦合金属层厚度的最优值，并从物理的角度解释了这种现象产生的原因是对称金属包覆结构中的辐射损耗和本征损耗共同作用的结果。实验测量了对称金属包覆结构中反射光的干涉效应。结果表明，对称金属包覆结构可以大大增强反射光的干涉条纹中明、暗光线的对比度，同时光入射到对称金属包覆结构中的耦合效率可接近1

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-05
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38659374

  1. 极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用

  2. 极紫外光刻投影系统中高反膜厚度一般约300 nm，远大于13.5 nm的工作波长，光能并不能完全穿透膜层入射到基底，从而引入数倍于波长的额外光程差，降低系统成像质量。从能量调制的角度提出了一种基于能量守恒定律的多层膜等效工作界面模型，将光学薄膜中复杂的物理光学过程等效地转换为简单直观的几何光学过程，获取可被常用光学设计软件识别的数据，进而实现对有膜光学系统的分析。利用该模型对不同系统进行了分析优化，获得了一套可实现衍射受限成像的有膜系统方案，证明了基于能量守恒的等效工作界面的有效性，指导后续系统

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-05
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38688097

  1. 极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征

  2. 极紫外（EUV）反射镜在使用过程中的氧化及表面碳污染沉积，严重影响了极紫外光刻（EUVL）技术的工业应用。为了延长EUV 反射镜的稳定性与使用寿命，一般采取在Mo/Si多层膜表面添加保护层。采用直流反应磁控溅射技术，建立氧气流量与溅射电压之间的“迟滞回线”关系，进而准确掌握不同氧化物保护层所需氧气量，以此减少过多的活性氧对下层Mo/Si多层膜的影响，提高镜面的反射率。选用RuO2与TiO2两种保护层材料进行比较，根据充氧量的不同，分析不同反应阶段的薄膜特性。针对催化性和物理稳定性更好的TiO2

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-04
    • 文件大小：5242880
    • 提供者：weixin_38652636
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